8.研磨的機理是什么？常用研磨和拋光的硬脆材料有哪些奋完？ 研磨和拋光是加工硬脆非金屬材料的主要方法之一创靴。研磨的過程是通過介于工件和研具之間的磨料及切削液,在工件和研具間產(chǎn)生機械摩擦或機械化學作用去除余量,使工件達到所需要的加工精度和表面質(zhì)量。硬脆材料的研磨與金屬的研磨不同,它是通過磨料在外力的作用下,使工件表面產(chǎn)生微小龜裂,并逐漸擴張和崩碎,從母體材料上脫離而進行加工的艾维。但是隨著加工去除單位的減小,加工機理也不同谭迄。開始粗粒度磨料研磨時,主要是脆性破壞。改用細微磨料(W5以下)時,研磨則是以塑性破壞為主赠戏。一般用硬質(zhì)研具的加工方法稱為研磨,用軟質(zhì)材料作研具的稱為拋光怔樊。在精密加工中,研磨和拋光是難于區(qū)分的。常用研磨和拋光的硬脆材料見表14-5安粤。

9.研磨和拋光硬脆材料的工藝參數(shù)有哪些贫宫？在研磨和拋光中,研磨壓力、相對速度與加工精度枝誊、研磨工具的硬度推捐、磨料的粒徑與研磨表面質(zhì)量有著密切的關(guān)系。研磨壓力小,相對速度低,加工精度就高侧啼。磨料粒度小,研具的材料軟,加工后的表面粗糙度就小牛柒。研具的壓力高,相對速度高,磨料的粒徑大,研具的材質(zhì)硬,加工的效率就高。研磨和拋光的工藝參數(shù)見表14-6痊乾。

10.常用的研磨拋光的磨料有哪些皮壁？常用來研磨和拋光的磨料可分為一般磨料和特殊用途磨料椭更。一般磨料有:二氧化硅( SiO2)、氧化鋁(Al2O3)蛾魄、氧化鋯(ZrO2)虑瀑、氧化鈰(CeO2)、三氧化二鐵(Fe2O3)滴须、氧化鉻(Cr2O3)舌狗、金剛石(C)。特殊用途的磨料有:氧化鎂(MgO)扔水、氧化釷(ThO2)痛侍、氧化鋅(ZnO2)、氧化鈦(TiO2)兔升、氧化錳(MnO2)葱山、碳酸鈣(CaCO3)等。

超精密研磨機11.超精密研磨與拋光的方法和特點有哪些胃余？一般情況下,加工去除的單位越小或機械的作用越小,被加工表面質(zhì)量就越高近陈。如果研磨能以原子或分子為單位去除材料,表面的粗糙度就能達到納米(nm)級,加工的變質(zhì)層很微小或沒有。各種超精密研磨與拋光的磨料粒徑一般在數(shù)微米以下,對半導(dǎo)體材料的超精密加工,多用粒徑為0.02μm的磨料没撒。為了防止工件氧化和研磨液中的雜質(zhì),引起加工表面的劃傷,一般使用蒸餾水或離子水紊埂。各種超精密研磨方法和特點如下:(1)超精密研磨與拋光:它的機理是以磨料的機械作用為主去除材料。研磨時采用各種細微磨料和軟質(zhì)磨料胆叁。研磨工具采用鑄鐵庶消、玻璃、陶瓷号呜、軟金屬,拋光時采用軟質(zhì)研具或瀝青鞋倔。研磨液采用機油、煤油剑征、水溶液,拋光時采用過濾水或蒸餾水除呵。研磨方式有手工研磨和機械研磨。主要加工對象為各種硬脆材料爪喘。(2)液中研磨與拋光:它是浸在含有磨料的工作液中進行的,以磨料的機械作用為主,加上液體的冷卻與分散磨料的作用,被加工工件是浮動的,在液中運動進行颜曾。研磨液是過濾水或蒸餾水。研磨工具采用合成樹脂或錫等軟質(zhì)材料秉剑。主要加工對象是硅片等電子材料泛豪。(3)化學研磨與拋光:它是在工件被加工的過程中,伴隨著化學反應(yīng)或水合反應(yīng),將化學反應(yīng)或水合反應(yīng)的生成物去掉,其目的是為了提高加工的效率。它的原理是以機械作用去除化學反應(yīng)的生成物侦鹏。采用細微磨料和水溶液或純水及無紡布或玻璃板等研具诡曙。主要用來加工硅和藍寶石基板。(4)EEM加工:它的加工原理是高速旋轉(zhuǎn)的樹脂球?qū)ぜa(chǎn)生一定的壓力和氣流,并在它們之間加上含有磨料的工作液,使樹脂球沖擊或擦過工件表面進行加工略水。這種加工方法可以加工任何形狀的表面,而且質(zhì)量很高,但是效率很低价卤。(5)浮動研磨:它是利用滑動軸承的動壓效應(yīng)原理,將研具做成容易產(chǎn)生動壓效應(yīng)的形狀,在工件與轉(zhuǎn)盤作相對運動時,由于動壓效應(yīng)工件浮起而脫離接觸,再通過間隙進入磨料和切削液而進行加工的劝萤。這種方法可以獲得很高的表面質(zhì)量。

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