通過高脈沖實(shí)現(xiàn)高性能的涂層
HPPMS-通過高等離子電離法改進(jìn)涂層的性能
商業(yè)與科學(xué)機(jī)構(gòu)都在不斷尋找解決方案經(jīng)過優(yōu)化之后歹垫,如何使涂層更為有效的方法姓赂。使用高功率脈沖磁控濺射(HPPMS)技術(shù)磺伍,可以使物理氣相沉積(PVD)技術(shù)釋放出巨大的潛力织娶。
除了其它的幾個(gè)參數(shù)霹糜,例如活性和惰性氣體的壓力,襯底偏置和隨系統(tǒng)決定的參數(shù)掐赠,在涂覆工藝中發(fā)生電離淳篡,對(duì)于PVD涂層的質(zhì)量具有非常重要的意義。
通過系統(tǒng)優(yōu)化提高質(zhì)量糯湃。
CemeCon公司在很早以前些援,就已經(jīng)認(rèn)識(shí)到電離和涂層質(zhì)量之間的一致性。在過去的20年以來捧擂,CemeCon對(duì)涂層技術(shù)的改進(jìn)作出了很多貢獻(xiàn)准徘,并且將它們實(shí)施到CC800 ?型涂覆設(shè)備單元中用于增強(qiáng)電離作用。
除了優(yōu)化的磁場(chǎng)艾遗,脈沖技術(shù)和送氣系統(tǒng)之外洛退,專利的陽極以及助推技術(shù),都是超級(jí)氮化物涂層的優(yōu)良特性的產(chǎn)生原因杰标。
CC800?/9系統(tǒng)的高電離作用兵怯,允許超級(jí)氮化物涂層在比較低的偏置電壓下進(jìn)行生產(chǎn)。這意味著在旱,日益加厚的涂層摇零,需要不斷地承受激烈的低能量的轟擊。這種離子轟擊雖然是溫和的桶蝎,但是卻是高劑量的驻仅,因而產(chǎn)生一個(gè)不斷高度壓縮的涂層,同時(shí)不會(huì)產(chǎn)生不必要的缺陷登渣。
因此噪服,在實(shí)踐中毡泻,由于超級(jí)氮化物的殘余應(yīng)力大約為-1 (千兆帕斯卡)Gpa,從而與其它涂層區(qū)分開來粘优,而最傳統(tǒng)的涂層材料的殘余應(yīng)力為-3至-4 Gpa仇味。減少殘余應(yīng)力具有巨大的優(yōu)勢(shì)-其中之一是,它允許涂覆較高的涂層厚度去谈,使刀刃上的涂層更好和更光滑区为,并且粘附性也得到優(yōu)化。
脈沖和濺射技術(shù)是經(jīng)濟(jì)的费罚,高品質(zhì)涂層的基礎(chǔ)嫂衅。HPPMS是開發(fā)這項(xiàng)前沿技術(shù)的潛力的關(guān)鍵。
高功率- 頂級(jí)性能
為進(jìn)一步增加電離作用滋池,兩年前灌龄,CemeCon就已經(jīng)與HPPMS的發(fā)明人一起開發(fā)這項(xiàng)技術(shù)了。用HPPMS技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的直流等離子刺激茸暖,采用較短的開啟時(shí)間和相對(duì)比較長(zhǎng)的關(guān)閉時(shí)間的脈沖等離子文鸽。通常情況下,等離子的負(fù)載因子在大約50至500赫茲時(shí)是1:100畦瞒。因此纹词,一個(gè)10千瓦的直流電源輸出,可以被分為大約1兆瓦的短脈沖和相應(yīng)延長(zhǎng)的停止時(shí)間篙萧。
HPPMS極高的脈沖流轩鸭,在涂層源的前面,形成一個(gè)非常稠密的等離子區(qū)漏设。該涂層源中幾乎所有的原子通過等離子區(qū)時(shí)墨闲,都將被離子化,從而產(chǎn)生重大的電離增強(qiáng)作用郑口。
與科研聯(lián)系緊密
到現(xiàn)在為止鸳碧,已經(jīng)建成了七套CC800?/9 HPPMS系統(tǒng),并交付給研究機(jī)構(gòu)使用犬性。CemeCon與這些機(jī)構(gòu)一起對(duì)HPPMS進(jìn)行優(yōu)化瞻离,并推動(dòng)此項(xiàng)技術(shù)在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。在這里乒裆,使涂層更厚密套利,更均勻,是研究的目標(biāo)鹤耍。當(dāng)前所有工作的主要焦點(diǎn)肉迫,是對(duì)超級(jí)氮化物的進(jìn)一步開發(fā),進(jìn)一步降低殘余應(yīng)力并且改進(jìn)性能。
使用HPPMS專利技術(shù)的CC800?/9涂層系統(tǒng)的用戶可以獲得許多好處:超級(jí)氮化物的特點(diǎn)是喊衫,由于極低的殘余應(yīng)力可以允許涂覆較高的涂層厚度跌造,使刀刃上的涂層更好和更光滑,并且粘附性也得到優(yōu)化湘搀。極厚的涂層解決方案尾丑,為這種前沿的工藝技術(shù),打開了新的機(jī)遇渐仓。
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