采用H.I.S(高能離子磁控濺射)工藝可獲得最先進(jìn)的(Ti，Al)N涂層，使沉積的涂層有極佳的附著力；納米結(jié)構(gòu)的膜層具有高的硬度世杀、耐磨性和熱穩(wěn)定性阀参，以及低的摩擦系數(shù)和良好的韌性，非常適合于高性能切削領(lǐng)域瞻坝。

　　H.I.S技術(shù)可直接將被蒸發(fā)材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)蛛壳，從而可根本避免采用ARC(電弧)技術(shù)時(shí)，蒸發(fā)材料在熔融狀態(tài)中以液滴的形式沉積于工件表面的現(xiàn)象牢簸，使通過H.I.S獲得的涂層具有非常光滑平整的表面骨矗。

　　天威賽利涂層技術(shù)有限公司

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