荷蘭的PVD和等離子體輔助CVD涂層技術(shù)開發(fā)商——豪澤技術(shù)涂層公司(Hauzer Techno Coating BV)正在嘗試用其第二代高能激發(fā)磁控濺射(HIPIMS+)涂層技術(shù)對(duì)PVD涂層工藝進(jìn)行創(chuàng)新變革紧武。

　　物理氣相沉積(PVD)涂層工藝主要是通過(guò)電弧蒸發(fā)作用或磁控濺射作用來(lái)實(shí)現(xiàn)涂層在刀具表面的沉積粱目。據(jù)豪澤公司介紹阐合，HIPIMS+涂層技術(shù)可以克服電弧蒸發(fā)技術(shù)容易形成液滴的缺點(diǎn)棱歹。該公司指出祠烁，盡管通過(guò)對(duì)靶材進(jìn)行適當(dāng)冷卻和電弧運(yùn)動(dòng)控制，可將液滴的尺寸和數(shù)量減小到可以容忍的范圍之內(nèi)疤信，但與相應(yīng)的電弧蒸發(fā)涂層相比吩猴，HIPIMS+涂層表面更光滑、硬度更高口猜、與基體的粘附性更好负溪。

　　豪澤公司補(bǔ)充說(shuō)，與電弧沉積工藝相比济炎，磁控濺射工藝可能會(huì)導(dǎo)致涂層與基體粘附性下降和涂層密度減小川抡，而它開發(fā)的HIPIMS+涂層新技術(shù)能夠克服這些缺點(diǎn)。

　　由謝菲爾德哈勒姆大學(xué)與包括豪澤公司在內(nèi)的幾家合作伙伴聯(lián)合開發(fā)的第一代HIPIMS涂層技術(shù)是一種新型磁控濺射技術(shù)须尚，其陰極上的峰值功率要比傳統(tǒng)的磁控濺射工藝高幾百倍崖堤。豪澤公司指出，為了使等離子體達(dá)到所要求的高電離化耐床，提高陰極峰值功率是十分必要的密幔。該技術(shù)實(shí)現(xiàn)工業(yè)化應(yīng)用的主要局限性在于楔脯，與傳統(tǒng)的磁控濺射工藝相比，其沉積速度較慢胯甩。

　　為此昧廷，豪澤公司開發(fā)了第二代HIPIMS+技術(shù)。與采用頻率達(dá)200微秒偎箫、陰極峰值功率為兆瓦級(jí)的脈沖的第一代HIPIMS技術(shù)相比姚熊，第二代HIPIMS+技術(shù)采用的脈沖頻率達(dá)3.0毫秒、陰極峰值功率為幾百千瓦莱检。因此红最，該技術(shù)能夠獲得致密而無(wú)缺陷的涂層。

　　豪澤公司指出斗赘，HIPIMS+技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)是被涂層工件承受的熱負(fù)荷較低拟艳。因此(尤其對(duì)于熱敏感的工件)，可以通過(guò)提高額定功率肄酬，達(dá)到較高的沉積速度陈售，從而使該技術(shù)在經(jīng)濟(jì)上具有工業(yè)化應(yīng)用的可行性。公司可提供HIPIMS+涂層技術(shù)及相應(yīng)的Flexicoat涂層設(shè)備显憾。該技術(shù)及其設(shè)備目前仍在開發(fā)之中伦颠，預(yù)計(jì)在幾年內(nèi)可逐步成熟。下一步將會(huì)實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)件塌。

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