ADLC

　　無(wú)定形金剛石硬質(zhì)合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金剛石和石墨的優(yōu)良性能羹蚣。

　　批次

　　一個(gè)批次指能在同一爐袁翁，同一時(shí)間進(jìn)行涂層的零件組

　　陰極

　　陰極是一個(gè) PVD 術(shù)語(yǔ)，通常指陰極源或靶材秒拔，更嚴(yán)格地說(shuō)指陰極墅纲，是靶材安裝的極板，并在涂層工序中發(fā)生氣化恐呢。

　　CVA

　　鋁化化學(xué)氣相沉積過(guò)程擴(kuò)散鋁合金到部件表面游淆，提高抗高溫能力，防腐和抗氧化性能。

　　CVD

　　化學(xué)氣相沉積過(guò)程是由反應(yīng)氣體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行涂層沉積擎丘，在標(biāo)準(zhǔn)的 CVD 情況下追临，該反應(yīng)在 800 — 1050 ℃的高溫下進(jìn)行。

　　工藝時(shí)間

　　涂層時(shí)間是一個(gè)完整的過(guò)程边久，從一批次裝載到涂層蘑弊、冷卻和卸載。

　　微米

　　微米是百萬(wàn)分之一米

　　PCVD

　　離子活化 CVD 或離子加強(qiáng) CVD 遏治，這是 CVD 的低溫（低于 200 ℃）的加工過(guò)程掘缭，在 PACVD 情況下，通過(guò) RF 電源進(jìn)行氣體反應(yīng)鸵安。

　　PECVD

　　離子加強(qiáng) CVD

　　PVD

　　物理氣相沉積是在涂層設(shè)備爐膛觅冈，通過(guò)靶材的氣化沉積涂層的物理過(guò)程。

　　源

　　源是 PVD 術(shù)語(yǔ)昵慌，它是一種裝置假夺，用來(lái)裝夾靶材，同時(shí)包括觸發(fā)器废离，磁體侄泽，殼體和冷卻系統(tǒng)礁芦，源有時(shí)指陰極蜻韭。

　　sp2

　　硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于石墨

　　sp3

　　硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于天然金剛石

　　基體

　　涂層是的基體材料

　　靶材

　　target 是 PVD 術(shù)語(yǔ)，指被氣化的金屬材料柿扣，靶材與源一起通常范指陰極或源肖方。

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