PVD簡介
1. PVD簡介
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫女阀，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)缘违，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用蝇罐，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上岸腥。
2. PVD技術(shù)的發(fā)展
PVD技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀(jì)七十年代末，制備的薄膜具有高硬度合弥、低摩擦系數(shù)茉唉、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視结执，人們在開發(fā)高性能度陆、高可靠性涂層設(shè)備的同時，也在硬質(zhì)合金献幔、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究懂傀。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低蜡感，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強(qiáng)度無影響蹬蚁；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層郑兴；PVD工藝對環(huán)境無不利影響犀斋，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。目前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀情连、鉆頭闪水、階梯鉆、油孔鉆蒙具、鉸刀嬉哥、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片勒蜀、異形刀具津咒、焊接刀具等的涂層處理另碍。
PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由第一代的TiN發(fā)展為TiC哩拔、TiCN自烛、ZrN、CrN影焙、MoS2戈秕、TiAlN、TiAlCN襟笋、TiN-AlN嫡贷、CNx、DLC和ta－C等多元復(fù)合涂層抵肌。
3. 星弧涂層的PVD技術(shù)
增強(qiáng)型磁控陰極黄庸 ：陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)默蚌，從而完成薄膜材料的沉積冻晤。增強(qiáng)型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制绸吸，使材料的離化率更高鼻弧，薄膜性能更加優(yōu)異。
過濾陰極唤踝隆：過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統(tǒng)温数，可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀粒子、離子團(tuán)過濾干凈蜻势，經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%撑刺，并且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑握玛，具有抗腐蝕性能好够傍，與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。
磁控濺射：在真空環(huán)境下挠铲，通過電壓和磁場的共同作用冕屯，以被離化的惰性氣體離子對靶材進(jìn)行轟擊，致使靶材以離子网孕、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜蒿庙。根據(jù)使用的電離電源的不同，導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料均可作為靶材被濺射慢筝。
離子束DLC：碳?xì)錃怏w在離子源中被離化成等離子體砖蕾，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調(diào)整加在等離子體上的電壓來控制廷共。碳?xì)潆x子束被引到基片上论辈，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓诸鲸，因而離子能量更大伪您，使得薄膜與基片結(jié)合力很好；離子電流更大使驰，使得DLC膜的沉積速度更快订菇。離子束技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)在于可沉積超薄及多層結(jié)構(gòu)，工藝控制精度可達(dá)幾個埃骄娶，并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小哈误。
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