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PVD(物理汽相沉積)-MAXIT ?

工藝描述:

  PVD(物理汽相沉積)工藝原理是:將通常為金屬基體的固體材料(稱之為靶材)轉(zhuǎn)換成電離狀態(tài)后,電離蒸汽濃縮到基體上,形成薄膜涂層。離化可通過(guò)熱工藝(電子束或弧光即陰極真空電弧蒸發(fā))直接蒸發(fā)靶材表面材料或通過(guò)動(dòng)能例如等離子體(通常采用惰性氣體例如氬氣)撞擊靶材表面獲得蟹地。PVD工藝在真空室內(nèi)進(jìn)行,便于蒸發(fā)涂層材料移動(dòng)到基體上藤为,控制沉積率怪与,防止發(fā)生污染。

蘇爾壽Metaplas MAXIT? PVD設(shè)備

  與PVD濺射工藝相比缅疟,PVD電弧工藝的一個(gè)重要特點(diǎn)是在沉積過(guò)程中產(chǎn)生極大的等離子能量密度分别,蒸發(fā)靶材電離率達(dá)到100%。這樣生產(chǎn)的涂層存淫,與PVD濺射工藝相比耘斩,硬度大,密度大游隅,與基體的粘結(jié)性好圈喻。PVD濺射工藝的電離率只能達(dá)到10-40%

 

  物理汽相沉積是一種非常經(jīng)濟(jì)且柔性的工藝唆皇,因此廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工等工業(yè)生產(chǎn)中梨浑,通過(guò)改善功能表面特性來(lái)提供例如抗磨損等功能。

PVD MAXIT?工藝的特性:

· 可靈活地選擇涂層材料吨肆;

· 可提供各種應(yīng)用所需的例如耐磨損、抗腐蝕芙捏、特定摩擦等涂層或裝飾性涂層劳仿。

· 可有效控制涂層厚度和表面特性;

· 沉積率高

· 涂層與基體的粘結(jié)性好

· 沉積溫度低粤唤,最低溫度低于低于180 C (350°F)

· 具有批量生產(chǎn)能力甜海,經(jīng)濟(jì)實(shí)惠

· 裝置采用柔性化設(shè)計(jì),配置预锅、容積饵来、產(chǎn)量等可根據(jù)具體需求來(lái)設(shè)計(jì)


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