贏創(chuàng)和巴斯夫近日宣布找颓，雙方將合作發(fā)展二氧化鈰研磨液來(lái)制造計(jì)算機(jī)芯片芋忿。雙方預(yù)期合作研發(fā)出的研磨液將在2009年商品化宏赘。
　　
　　據(jù)介紹奈泪，研磨液內(nèi)含有納米材料如鈰元素适贸，可用在CMP （化學(xué)機(jī)械研磨） 制程中拋光二氧化硅的晶片表面，以達(dá)到非常平坦的效果涝桅。集成電路制造過(guò)程中最重要的步驟就是STI（淺溝槽隔離） 和ILD （內(nèi)層介電層）拜姿，而STI則需要使用到CMP研磨液。
　　
　　贏創(chuàng)無(wú)機(jī)材料事業(yè)部有關(guān)負(fù)責(zé)人介紹冯遂，隨著較小尺寸芯片的問(wèn)世蕊肥，CMP對(duì)于集成電路的制備日益重要。贏創(chuàng)和巴斯夫相信這個(gè)項(xiàng)目將使雙方在CMP的技術(shù)上達(dá)到領(lǐng)先水平蛤肌，并能提供新一代IC產(chǎn)業(yè)的解決方案和材料壁却。
　　
　　巴斯夫電子材料CMP事業(yè)部總監(jiān)馬濤博士表示：“化學(xué)在IC產(chǎn)品的發(fā)展中扮演重要角色，巴斯夫在化學(xué)領(lǐng)域強(qiáng)有力的背景裸准，結(jié)合贏創(chuàng)在研磨粒子方面的專長(zhǎng)展东，將保障我們推出的智能型解決方案滿足市場(chǎng)上日趨嚴(yán)格的要求±撬伲”
　　
　　據(jù)了解琅锻，贏創(chuàng)將在合作研發(fā)中提供各種等級(jí)的氧化鈰做為重要的基礎(chǔ)組分，并且提供這些粒子的制造技術(shù)儿戏。巴斯夫在歐洲及亞洲的高科技實(shí)驗(yàn)室將提供CMP研磨液的化學(xué)配方肴泥、生產(chǎn)以及關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)。

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