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帶您搞懂工業(yè)測(cè)量顯微鏡

工業(yè)測(cè)量顯微鏡廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)崔深,特別在電子行業(yè)荤傲,是觀察電路板的構(gòu)造和精確測(cè)量距離的“得力”儀器娇斩。關(guān)于顯微鏡的測(cè)量基礎(chǔ)知識(shí)夹囚,今天就和您淺聊一下纵刘。

一起走進(jìn)顯微鏡的世界

首先邀窃,我們從顯微鏡的主要構(gòu)成和光路說(shuō)起荸哟,請(qǐng)看下圖:

左:顯微鏡的主要構(gòu)成圖

右:顯微鏡的光路圖

在上圖中也提到了顯微鏡的三種照明方式。照明方式不同瞬捕,觀察成像也不同鞍历,因此需要根據(jù)不同的工件以及測(cè)量部位,選擇最適合的照明方式

照‖明‖方‖式

透射照明

采用透過(guò)輪廓光觀察的方法,特別是觀察測(cè)量輪廓時(shí)使用劣砍,邊緣清晰易于觀察惧蛹。

反射照明

垂直照射測(cè)量工件的表面,用來(lái)表面性狀的觀察和測(cè)量就肪。

外部照明(環(huán)狀光纖·環(huán)狀LED·雙光纖)

用斜射的光來(lái)照射測(cè)量工件的表面弥败,能夠?qū)崿F(xiàn)立體的、顏色重復(fù)性良好的觀察赊设。

使用顯微鏡時(shí)渣先,您可能會(huì)遇到顯微鏡的專業(yè)用語(yǔ),這些用語(yǔ)都代表什么意思呢未奋?

尯樟埽‖業(yè)‖用‖語(yǔ)

綜合放大倍率

綜合放大倍率=目鏡倍率 x 物鏡倍率。例:使用10x目鏡和100x物鏡組合時(shí)冻绊,觀察像的綜合放大倍率=10 x 100=1000x期庆。

視場(chǎng)數(shù)F.N

指目鏡能否在廣視野下進(jìn)行觀察的指標(biāo)。F.N=Field Number

裝配1x物鏡時(shí)瓷忙,通過(guò)目鏡觀察到的像的直徑為24mm

實(shí)視場(chǎng) FOV

指通過(guò)目鏡觀察時(shí)實(shí)際觀察和觀察工件的實(shí)際范圍耐陵。FOV:Field Of View


透過(guò)物鏡與成像鏡頭的光在分劃板上(成像鏡頭焦點(diǎn)位置)成像,觀察被目鏡放大后的像泵网。

PC顯示倍率(TV綜合倍率)

PC顯示器倍率(TV綜合倍率)是指相機(jī)攝像元件對(duì)角線長(zhǎng)度與PC顯示器屏幕對(duì)角線長(zhǎng)度之比铐维。當(dāng)顯微鏡通過(guò)CCD 設(shè)備連接至電腦上進(jìn)行成像觀察時(shí),就需要評(píng)價(jià)顯示器倍率了慎菲。

PC顯示器倍率(TV綜合倍率)的計(jì)算公式如下:

小小測(cè)試題:

提問(wèn):使用10×物鏡?2/3英寸CCD相機(jī)?17英寸顯示器的TV綜合倍率是多少嫁蛇?

解答:TV綜合倍率=10 × 39.3=393×(大約400倍)

工作距離 WD

聚焦時(shí)物鏡鏡頭頭部頂點(diǎn)到檢查物體表面的距離。工作距離越長(zhǎng),聚焦時(shí)操作性越好,不用擔(dān)心鏡頭會(huì)碰上檢查物體露该。WD:Working Distance

工作距離的示意圖

齊焦距離 PFD

聚焦時(shí)從物鏡安裝位置到合焦時(shí)檢查物體表面的距離睬棚。PFD:Par Field Distance

倍率不同但是從物鏡安裝面到檢查物體表面的距離不變,所以變倍率時(shí)不用重新對(duì)焦解幼。

焦點(diǎn)距離 FD

焦點(diǎn)距離指鏡頭(主點(diǎn))到焦點(diǎn)的距離抑党。FD:Focus Distance

焦點(diǎn)深度 DOF

聚焦之后,聚焦位置前后移動(dòng),也能清晰的觀察的前后移動(dòng)范圍。DOF:Depth Of Focus

高倍率鏡頭倍率越高較深越淺(短)

低倍率鏡頭倍率越低較深越深(長(zhǎng))

在人眼分辨力以下(約0.1至0.3mm)需要使用顯微鏡來(lái)撵摆,顯微鏡的觀察方法又有哪些呢底靠?

觀‖察‖方‖法

明視場(chǎng)觀察

垂直照射測(cè)量物表面,適用于金屬特铝、印刷電路板暑中、淺孔的表面觀察。

暗視場(chǎng)觀察

通過(guò)對(duì)從工件發(fā)出的散射光進(jìn)行觀察鲫剿,可完成在明視場(chǎng)下觀察不到的劃痕鳄逾、塵埃宽剪、凹凸,以及勝任低反射工件的觀察灌笙。

偏光觀察

觀察具有偏光特性的物質(zhì)葵张,適用于半導(dǎo)體材料、液晶汗绰、結(jié)晶哀擒、金屬組織、礦物等表面觀察琴坏。

微分干涉(DIC)觀察

利用Nomarski棱鏡將光線分為兩束赶匣,形成明暗和對(duì)比度變化,可進(jìn)行立體觀察橄妄。適用于觀察硅片的結(jié)晶缺陷卿怀、磁頭研磨面的損傷檢查、涂裝面小赋、金屬組織镣凯、礦石表面等。

END



(工業(yè)精密測(cè)量中心)

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