蔡司Axioscope光學顯微鏡

用于材料實驗室研究和常規(guī)分析的顯微鏡 

Axioscope正置光學顯微鏡是專為滿足材料 實驗室的光學成像要求而設計的渺纯。

編碼和自動化特性使其特別適合于對數(shù)據(jù) 質量和再現(xiàn)性提出高要求的常規(guī)任務。此 外它還能夠滿足材料科學研究的高顯微成像要求苫颤。

PlasDIC,相位襯度、熒光)

■ Zen core:專門為材料研究和金相學幵發(fā) 的成像軟件 

Axioscope是工業(yè)中金相學和材料科學研究 的一個關鍵解決方案奏散，具有確定晶粒度俯坐、多 相分析、層厚測量以及石墨評級剩喧、清潔度分 析的功能寺晌。

■編碼組件以保證可靠的和可重復的結果

■現(xiàn)代光源管理，自動調節(jié)燈光強度和比例

人體工程學的操作理念:Axioscope控制按鈕

Zen core:用于金相應用的成像軟件澡刹，如多相分析和層厚測量

先進的光源管理保證您的樣品總是適合的照明呻征。 憑借其處理許多日常任務的多功能性， Axioscope能夠成為實驗室員工的理想工具罢浇。 產品特點

■一款能同時滿足常規(guī)分析任務和高級研究 應用的儀器

■符合人體工程學的操作理念陆赋，易于圖像采集

■無需將手從顯微鏡上移開或依靠外部控制器 就能完全控制載物臺的移動(Axioscope?)

■由于X、Y和Z運動軸完全電動嚷闭，自動高級 成像(Axioscope 7)

■多種觀測模式攒岛，以滿足材料顯微鏡的特殊 要求(明場、暗場、偏光阵子、DIC思杯、C-DIC胜蛉、PlasDIC,相位襯度挠进、熒光)

蔡司Axioscope光學顯微鏡

用于材料實驗室研究和常規(guī)分析的顯微鏡

ZEISS Axioscope 5

帶有編碼組件的手動顯微鏡，用于分析材料 切口誊册、薄片和斷裂表面皇驼，能夠提供可重復性 和可靠的結果。

ZEISS Axioscope 5 for Polarization 

帶有編碼組件的手動顯微鏡窘吟，用于偏光顯微 應用：地質畦怒、礦物學和金相學，能夠提供可 重復性和可靠的結果蠕蹋。

ZEISS Axioscope 7

帶有編碼組件的電動顯微鏡桶邑，用于需要先進 成像能力和工作流程自動化的材料顯微學任 務。

ZEISS Axioscope Vario

靈活的材料顯微鏡阔渔，用于反射光和熒光應用务囤， 具有擴展的樣品空間，可容納380mm的大型物體您风。

Microscope

■ Axioscope 5

■ Axioscope 5 for Polarization

■ Axioscope 7

■ Axioscope Vario

Objectives

■ EC-EPIPLAN

■ EC-Epiplan-NEOFLUAR

■ EC-Epiplan-APOCHROMAT

Illumination

■ LED 10W

■ HAL 100W (Halogen)

Cameras

■ Axiocam 105

■ Axiocam 208

■ Axiocam 305

■ Axiocam 503

■ Axiocam 506

■ Axiocam 512

■ Axiocam 705pol

Software

■ ZEN core

■ Matscope

Material Modules

in ZEN core

■ Grain Size Analysis

■ Cast Iron Analysis

■ Multiphase and Porosity Analysis

■ Layer Thickness Measurement

■ Comparative Diagrams

■ Technical Cleanness Analysis

蔡司 Smartzoom 5

讓檢測工作更簡單：全自動數(shù)碼顯微鏡 

智能化設計

Smartzoom 5的高度智能化得以保證質量控 制及分析（QA/QC）的技術要求：

■光學系統(tǒng)將變焦幅挂、全景相機和同軸照明技 術集成在單個組件中。

■ Smartzoom 5可以顯示所有主要部件的狀 態(tài)信息并能自動校準組件偏差参攻。

■電動化腺帽、自動化和工廠校準的組件適用于 即插即用安裝，為您節(jié)省更多時間髓绽。

■易于組裝和安裝的輕質敛苇、便攜式系統(tǒng)，無 需專業(yè)知識或專用工具顺呕。

閥門出口的廢氣殘留物接谨，分段式環(huán)形光照明，景深擴展（EDF） 物鏡：1.6X,放大倍數(shù)：45X

PCB,全環(huán)形光照明

物鏡：0.5X,放大倍數(shù)：12.5X

智能化工作流程

Smartzoom 5集成圖形化用戶界面塘匣，結合手 勢控制可以支持從宏觀到微觀工作流程的無 縫對接脓豪，輕松實現(xiàn)快速導航：

■對于同一類型且需要一步步重復分析的樣 品，宏記錄和操作者模式能大大提高該分 析工作流程的效率忌卤。

■圖像預設和增強功能是您獲取良好圖像的 得力助手扫夜。

■運用圖像算法實現(xiàn)自動化測量。

■直觀驰徊、易于使用-即使沒有經驗的用戶也 能獲得良好結果笤闯。

智能化輸出

Smartzoom 5性能可靠穩(wěn)定，能夠為日常檢 測和失效分析任務提供快速且可重復的QA/ QC測量：

■與校準組件相結合的工作流程幫用戶獨立 獲取檢測結果。

■系統(tǒng)配備多項全自動化功能颗味，在大大提升 效率的同時實現(xiàn)快速可靠的分析-隨時獲 悉您的產品質量超陆。

■簡易實現(xiàn)注釋圖像及導出報告至Word模板 功能。 

蔡司Smartzoom 5

讓檢測工作更簡單：全自動數(shù)碼顯微鏡

主要技術參數(shù)

最大分辨率 0.56 um

最大放大倍率 2,022 x （以17.5寸顯示器對角線和4:3屏幕比率為參照標準）

光學變倍 變倍系數(shù)：10x

變倍范圍：0.5x-5.0x

相機 傳感器類型：CMOS

傳感器尺寸：1英寸鹃改，420萬像素

實時圖像幀率 咼達30fps

電動載物臺 X,Y,Z 軸行程：130mmx 100mmx60mm

最大載重：4kg

重復性：±1 pm;絕對精度：±5pm

照明器 同軸LED反射光

配有4個獨立可選分段的LED環(huán)形光源

混合照明：同軸和環(huán)形光源

一體式計算機 操作系統(tǒng)：Windows 10

顯示器大姓郊堋：21.5寸

分辨率（像素）:1,920x1,080

物鏡：

PlanApo D 10x/0.6 工作距離10 mm遠心鏡頭， 適用于同軸光和環(huán)形光

PlanApo D 5x/0.3

工作距離30 mm遠心鏡頭, 適用于同軸光和環(huán)形光

PlanApo D 1.6x70.1

工作距離36 mm遠心鏡頭, 適用于同軸光和環(huán)形光

PlanApo D 0.5/0.03

工作距離79 mm

適用于環(huán)形光

附加功能：

■優(yōu)化型電纜并放置在系統(tǒng)內部以消除 雜波

■一分鐘內簡易組裝系統(tǒng)

■帶有保護樣品和用戶的安全功能

■運輸箱（可選）

同 Smartproof 5

用于質量控制與表面檢測領域的快速轉盤共聚焦顯微鏡 

更簡單侦萍、更智能咸壮、更高度集成

通用型的蔡司Smartproof 5快速轉盤共聚焦顯微鏡是一款能夠快速 提供工業(yè)零部件表面彩色三維輪廓，并且不接觸測試樣品的儀器設 備均壳。

■該顯微鏡在工業(yè)領域有很廣泛的應用漆究，例如粗糙度測量，表面形貌 表征等拔翠。您的質檢部門钉榔、生產線和研發(fā)實驗室，都可能用到這臺顯 微鏡翅窥。

■這臺效率高圣钝、用途廣泛的共聚焦系統(tǒng)，專注快速測量與成像翁旁，專有的 操作者模式特別適合工業(yè)歹的批量檢測眄大大地提高檢測效率蝠欲。

優(yōu)異的設計、向導式的工作流程倦微、值得信賴的輸出結果

■全集成的系統(tǒng)設計妻味；光學、電路和相機都用盡可能少的線纜集成 在顯微鏡內欣福，以避免雜亂责球。整個系統(tǒng)穩(wěn)固的設計，可以有效抵消 震動拓劝，無需昂貴的減震設備雏逾。

.高分辨：由于采用了共聚焦成像原理，Smartproof5將傳統(tǒng)光學分 辨率提高了 1.4倍郑临，其XY方向線分辨率達到130nmo

■高測量精度栖博；在充分利用共聚焦提供高度信息的基礎上,Smartproof 5 配備了精度高、重復性好的Z軸自動步進裝置厢洞，最小步進精度達到 1nm,這使得高度上亞微米仇让，甚至納米尺度的非接觸式高精度測量 成為可能。

■高速掃描：傳統(tǒng)共聚焦采用點掃描成像躺翻，速度較慢丧叽；而Smartproof 5 采用轉盤掃描卫玖，成像速度大大提高，最快的高精度模式掃描速度超 過50幅渺（2048*2048分辨率）宴忱，瞬間即可得到測量結果辐胆，大大提 高工作效率。

蔡司EVO掃描電子顯微鏡

兼具自動化與高性能的小型掃描電子顯微鏡解決方案

行業(yè)的新伙伴-

蔡司EVO掃描電子顯微鏡的品質值得信賴巾妇，可助工業(yè) 質量保證和失效分析實驗室一臂之力

在工業(yè)質量卸研、失效分析或研究領域，由于掃描電子顯微鏡可提供高分 辨率成像和高空間分辨率元素化學信息呕豪，所以它是金相學和失效分析 應用的理想之選药扒。

專為日常檢測和分析應用而設計榆眷，蔡司EVO擁有先進的操作設計理 念糯档，無論是經驗豐富的顯微技術人員還是不具備掃描顯微鏡專業(yè)知識 的工程師，均可輕松上手屡旺。它能夠提供高質量圖像蜡幼，特別適合于后續(xù) 検測中無法涂覆導電層的非導電零部件。

EVO的獨特優(yōu)勢在于能夠無縫集成至多模式質量保證或失效分析工 作流程中端制，半自動化重定位感興趣區(qū)域和數(shù)據(jù)完整性解決方案使其可 以實現(xiàn)跨系統(tǒng)嗓万、跨實驗室甚至跨區(qū)域的應用。

此外灸叼，EVO還是清潔度分析的工業(yè)級解決方案平臺神汹。憑借大量可選 的樣品室、真空系統(tǒng)古今、電子槍和分析選件屁魏，EVO可以滿足您的性價 比需求。

邁入檢測應用新高度-當達到光學顯微鏡分辨率或襯 度極限時捉腥，EVO能助您尋求更多答案

高分辨率表面形貌

二次電子（SE）成像-使用高達數(shù)納米的分辨率氓拼，輕松應對幾乎所有 亞微米級應用。光學顯微鏡可獲得表面襯度（反射）抵碟，而二次電子則 可獲得樣品表面上的邊緣襯度桃漾，因此能夠提供更詳細的表面形貌信息， 如金屬裂縫拟逮。

組分成像

背散射電子（BSE）成像可獲得與零部件或裝配件材質密度成比例的 襯度撬统。通過獲取組分異質性信息可以幫助您找出材料失效或質量偏差 的根本原因。

高空間分辨率元素分析

在能量色散譜儀（EDS）中敦迄，通過精準聚焦的電子束與樣品之間相互 作用產生的X射線能夠獲得表面元素組分信息恋追。運用掃描電子束在感 興趣區(qū)域上得到化學元素分布。EVO與EDS組合為質量檢驗或材料 失效分析應用中的元素化學信息成像提供優(yōu)良的解決方案烙凝。

高性價比-契合您的性價比需求

樣品室規(guī)格

無論是小型組件连欲，還是大型零部件或裝配件，如傳動系統(tǒng)或電氣組件， 均可從三種規(guī)格的真空樣品室（EV0 10椅损、15和25）中選擇最適合成 像和分析需求的一款帘战。

電子槍

選擇標準熱電子槍（發(fā)針型鴇絲），或選用六硼化錮（LaB6）電子槍 獲得高達10倍的電子束亮度吉挎。多年來斑永，蔡司不斷致力于掃描電子顯微 鏡中LaB6電子槍的改進，以提高易用性和圖像質量氨固，尤其是在可變 壓力模式下蛀埂。

與樣品匹配的真空環(huán)境

為金屬和其他導電零部件選擇標準高真空配置，或選配可變壓力（VP） 模式進行非導電零部件的成像與分析解瀑，無需涂覆或制備盾轮，從而不會干 擾多模式質量保證或失效分析工作流程。在可變壓力模式下蛛蒙，也可選 擇品質優(yōu)良的蔡司C2D二次電子探測器對非導電零部件進行表面形貌 成像糙箍。

蔡司Sigma系列掃描電子顯微鏡

擁有高品質成像和優(yōu)良分析功能的場發(fā)射掃描電鏡 

蔡司Sigma系列是擁有高品質成像和優(yōu)良分 析功能的場發(fā)射掃描電鏡。它收益于久經考 驗的Gemini電子光學技術牵祟。Sigma可以配備 多種探測器深夯，可以滿足不同的應用需求：顆 粒物，表面構型及納米結構等樣品的成像诺苹。利 用Sigma直觀的4步工作流程咕晋，可以使得日 常所需的成像和分析的效率得到提高。

Sigma 300具有極高的性價比收奔。而Sigma 500以其先進的EDS幾何設計實現(xiàn)方便快 捷的分析能力掌呜。無論何種試樣，Sigma都能 以其高精準性及可重復的測量結果得到您的 信賴筹淫！

智能并加速工作流程

Sigma的4步工作流程可控制Sigma的所有 功能站辉。可快速獲取圖像损姜，同時饰剥，節(jié)約在培訓 上的時間。

■導航您的樣品摧阅，并為其設置適合的成像 條件寺癌。

■在樣品上定義感興趣區(qū)域，可自動實現(xiàn)在 多個樣品上采集圖像铣啰。

■獲得可關聯(lián)的可視化結果绅荒。

先進的分析系統(tǒng)

■掃描電鏡與要素分析相結合：

Sigma頂尖的EDS幾何設計能夠增強分 析能力，尤其是對電子束敏感的樣品肌搔。

■可實現(xiàn)在之前一半的束流下得到分析數(shù) 據(jù)肝羊，同時測試速度比之前快一倍成甫。

■ 8.5mm的工作距離和35度的出射角，可 得到完全沒有陰影區(qū)域的分析結果子特。 靈活的探測手段獲取高分瓣率的圖像

■使用新的探測器技術描繪您的所有樣本著正。

■使用新型的ETSE二次電子探測器及用于 高真空狀態(tài)下的InLense二次電子探測器 可以獲得高分辨率的形貌信息。

■ VPSE和C2D探測器在各種壓力模式下都 可以獲取清晰的圖像挨伯。

■使用環(huán)形STEM探測器可以獲取高分辨率 的傳送圖像侥镀。

■使用四通道BSD探測器和鈕鋁石榴石晶體 探測器研究成分。 

蔡司Sigma系列掃描電子顯微鏡

擁有高品質成像和優(yōu)良分析功能的場發(fā)射掃描電鏡

技術參數(shù)

先進的大樣品高分辨率成像技術

蔡司Xradia 515 Versa三維X射線顯微鏡

助您的研究一臂之力

蔡司X射線顯微鏡（XRM）是我們先 進的硏究解決方案履绎，即便相對較大的 樣品皇可，也可以實現(xiàn)出色的高襯度亞微 米級三維成像。蔡司Xradia 51 5 Versa 采用獨特的兩級放大技術缠俺，使您能在 大工作距離下實現(xiàn)高分辨率（RaaD） 成像显晶。結合Xradia平臺的靈活、穩(wěn)定 的特性晋修，該系統(tǒng)的多用途特性發(fā)揮的 淋漓盡致吧碾，可快速為您的硏究提供成 像結果凰盔。

該系統(tǒng)在非破壞性三維成像方面取得 的突破性進展墓卦，賦予它對于不同尺寸、 幾何形貌和成分等多樣化科學硏究的 應用廣度户敬。該平臺的多功能性可實現(xiàn) 很多獨特的應用落剪，如內部斷層成像、 相位襯度成像尿庐、4D和高分辨率原位 成像等忠怖。

蔡司三維X射線顯微鏡以可升級擴展 且穩(wěn)定可靠的平臺為依托，可持續(xù)保 障您的投資抄瑟。

蔡司 Xradia 515 Versa 作為 Xradia Versa 系列的經典產品凡泣，專為追求高品質三 維成像能力的用戶而打造。 

鋰離子電池明極切片的三維渲染（左圖）和虛擬截面圖（右圖）拯奔，顯示了構成電極的顆粒以及內部顆粒開裂谭扑。

聚合物電解質燃料電池的三維渲染（左圖）和虛擬截面圖（右圖），顯示了氣體擴散層纖維（紫色/綠色）办樟、 微孔層（藍色）优诵、催化劑層（黃色）和電解質（橙色）。

優(yōu)勢

-無損三維成像

-具有獨特的RaaD （遠距離高分辨率）功能疟骤，在大工作 距離下也可以實現(xiàn)高分辨率成像

-對同一個樣品在多個放大倍率范圍內進行多尺度成像

?先進的成像襯度解決方案药阔，包括吸收襯度和相位襯度

-先進的4D和原位成像技術，適用于不同尺寸和材料類 型的樣品

?Smartshield用于樣品保護和設置優(yōu)化

?"定位-和-掃描"（Scout-and-Scan）功能可實現(xiàn)多

用戶環(huán)境下對工作流程的簡化

-自動實現(xiàn)樣品感興趣區(qū)域高精度定位陨梅，可實現(xiàn)無縫三 維成像和導航

-使用可選配的自動進樣裝置同時對多達14個樣品的運 行隊列進行編程

-使用可選配的平板探測器（FPX）擴展觀察視野（FOV） 可進行大樣品成像

?XRM Python API可讓您靈活定制儀器的控制功能

?可延展使用0ptiRecon和DeepRecon Pro等先進的重建 技術译教，令性能大幅提升（例如高至10倍的通量杖扫、出色 的圖像質量）

應用領域

材料研究

可用于三維表征材料、觀察失效機理及降解拖揩、以多尺度 檢測特性违冲、通過4D和原位研究對微觀結構演化進行定量 與分析。

電池和儲能

可用于失效分析蒋毕，并對電池隔膜和電極進行質量檢查略荡， 以確認是否有缺陷和夾雜物，跟蹤老化機理歉胶。

電子元件和半導體

在對完整封裝進行失效分析時汛兜，可用于對感興趣區(qū)域進 行成像和表征，然后再進行切割或拋光通今。

自然資源

可用于對孔隙結構進行表征和定量分析粥谬，并實現(xiàn)流體驅替 成像，同時采集多相顆粒信息和大體積統(tǒng)計數(shù)據(jù)辫塌，以滿足 油氣漏策、礦物及其他自然資源的需求。

制造技術

可用于分析3D打印零件的內部斷層掃描圖像臼氨，可進行原 位力學測試掺喻。

生命科學

對整個植物和固定的小動物模型中的組織、細胞和微結 構進行可視化和表征储矩。 

蔡司X射線顯微鏡

先進封裝幵發(fā)的非破壞性3D圖像

XRM可對樣品進行無損成像感耙，無需對樣品進行物理切割

■瀝高分辨率和更佳襯度進行高精度非破壞性3D成像

■分辨率不隨樣品尺寸的增加而降低

■配備的平板探測器(FPX)可獲得更高效率的大視野成像

■可用于：

-完整的半導體封裝

-300 mm晶圓

-揚聲器

■攝像頭模組

-電路板

-電子器件 

快速整樣品掃描并實現(xiàn)感興趣區(qū)域高分辨率的放大

蔡司X射線顯微鏡

先進封裝幵發(fā)的非破壞性3D圖像

可對樣品進行無損成像，無需對樣品進行物理切割

■可對不同種類的樣品進行虛擬切面成像

■以更高的分辨率和更好的襯度進行高精度非破壞性3D成像

■分辨率不隨樣品尺寸的增加面降低

■可用于：

■完整的半導體封裝

-300mm晶圓

_揚聲器

.微單

.電路板

電子器件和設備圖像

蔡司X射線顯微鏡

先進封裝幵發(fā)的非破壞性3D圖像

鋰電池行業(yè)多尺度多模塊綜合應用解決方案

蔡司光鏡持隧、電鏡以及X射線顯微鏡 

蔡司顯微鏡在鋰電池行業(yè)解決方案

在鋰離子電極材料中即硼，特征尺寸最大至數(shù)十微米，最小到數(shù)納米腕浴。對 于鋰電池行業(yè)的研究圣谴，蔡司顯微鏡可以提供跨越多尺度多模塊的綜合 解決方案。蔡司顯微鏡在組裝阅六、電極材料以及隔膜等工藝環(huán)節(jié)都有廣 泛應用母赶。

鋰離子電磁部件分為正極材料、負極材料絮很、電解液捡奖、隔膜和包裝材 料。光學以及電子顯微鏡可以提供不同尺度的的電池正負極材料的 高分辨表面形貌戚绪。得益于蔡司優(yōu)異的光學設計窍蚤，在蔡司X射線顯微 鏡中可實現(xiàn)亞微米級別的三維成像，可以對封裝缺陷曙辛、孔隙率和空 洞聯(lián)通性等觀測夏植，同時蔡司光聯(lián)解決方案可以將不同尺度不同維度 的信息進行關聯(lián)整合舰断。

鋰離子電池應用案列  

光學顯微鏡視野廣，色彩信息豐富砸捏，可以區(qū)分負極材料和隔膜谬运，在鋰 離子電池宏觀缺陷的分析中應用廣泛。

電極材料使用掃描電鏡在不同尺度對正極材料表面形貌進行高分辨成像垦藏，對材 料的顆粒以及孔道大小梆暖、均勻性進行觀測分析。 

使用Zeiss XM線顯微鏡對電極材料進行三維成像掂骏，觀察孔道聯(lián)通性, 通過虛擬切片可以實現(xiàn)對整體彎曲度以及孔隙率的計算統(tǒng)計轰驳。

蔡司多模塊聯(lián)用解決方案

光學顯微鏡反映樣品的整體形貌以及光學相關信息，如需要更高分辨 觀察和元素分析弟灼，通過蔡司關聯(lián)軟件可以在電鏡里對感興趣點進行重 定位级解，從而進行高分辨細節(jié)成像以及能譜元素分析。

電池隔膜

隔膜的主要作用是保障正負極分開的情況下鋰離子自由通過田绑，是保障 電池安全的最重要部分之一勤哗。

得益于蔡司電鏡獨特的Gemini鏡筒光學設計，對于極不導電掩驱、電子束 敏感的隔膜樣品芒划，可以實現(xiàn)極低電壓下直接成像，并且具有非常高的 分辨率和豐富的表面細節(jié)昙篙。

濕法拉伸鋰電池隔膜表面形貌

第三方配件兼容性

蔡司場發(fā)射掃描電鏡采用熱場發(fā)射式電子源降再，電子束流穩(wěn)定，適合快 速而廣泛的分析工作揖岔，如EDS和EBSD分析。

蔡司電鏡具備大的樣品腔室空間和載物臺行程侥淤，能夠兼容真空轉移盒文荚、 原位拉伸臺、加熱臺等第三方配件或侥。 

真空轉移盒衬械，適用于鋰片等活性材料，

直接從手套箱轉移到掃描電鏡中哺裳，避免與空氣接觸

蔡司關聯(lián)顆粒度分析CAPA

使用光學和電子顯微鏡依照IS016232/VDA19標準快速表征和分類顆粒 

蔡司CAPA的性能優(yōu)勢：在更短時間內辨識對工藝流程起 關鍵性作用的顆粒

使用蔡司光學顯微鏡依照IS016232/VDA19標準執(zhí)行清潔度分析辙霎，通過 光學顯微鏡的明場和偏光功能可提供濾膜上顆粒的數(shù)量、形狀坛饥、大小 及種類等信息淋憋。此外，還可以借助電子顯微鏡對顆粒進行EDS能譜分 析吴澜。CAPA能夠對多達200個最大顆撂倚颍或200個選定大小的顆粒自動執(zhí) 行能譜分析杖虾，并將光學和電子顯微鏡的全部分析結果整合在一份報告 中，在更短時間內獲取更豐富的信息媒熊。光電聯(lián)用技術充分發(fā)揮了光學 與電子顯微鏡兩者的優(yōu)勢奇适。

更簡單、更智能芦鳍、更高度集成

更豐富的圖像細節(jié)

表征對工藝流程起主要作用的顆粒和標識超標顆粒嚷往，關聯(lián)顆粒度分析 (CAPA)將光學顯微鏡與電子顯微鏡兩者的分析數(shù)據(jù)相結合。使用光 學顯微鏡檢測顆粒柠衅，并能夠在蔡司掃描電鏡下全自動重新定位顆粒并 且自動執(zhí)行EDS分析间影，以獲取其元素成份信息。使用分類顯示挑選出 感興趣的顆粒并找出它們的來源茄茁。

快速且自動化

CAPA以報告形式自動記錄光學顯微鏡和電子顯微鏡兩者的分析結果魂贬， 分析結果合并在一份總結報告中。CAPA比單獨先使用光學顯微鏡然后 再使用電子顯微鏡的分析速度要快10倍多裙顽。

專業(yè)化的系統(tǒng)

只需輕擊幾下鼠標付燥，便可完成輸入項目信息、創(chuàng)建報告及歸檔分析結 果等操作颅网，所有分類及IS段卵。代碼一目了然。在分類顯示和評估視圖中翎憨， 可快速瀏覽所有顆粒類型：金屬荤榄、非金屬及纖維。此外磨再，可輕松重新 定位感興趣的顆粒借倘，使用修正模式能夠進行再分類或編輯顆粒。 

金屬顆粒的光學顯微圏像 同一金屬顆粒的電子顯微圖像 含EDX分析的費加圖像

關聯(lián)顆粒度分析工作流程 

混膜樣品制備

■零部件清洗

-濾膜過濾清洗下來的顆粒

■濾膜烘干

■將濾膜裝到CAPA專用Holder上

光鏡分析

■三點法建立二維坐標系

-用偏光自動拼圖掃描整個濾膜

■用明場再次自動拼圖掃描整個濾膜

■得到顆粒的類型分類莉遥、尺寸統(tǒng)計信 息以及顆粒的坐標信息

電鏡分析

■將整個CAPA holder及樣品放入電鏡

?三點法建立二維坐標系

■直接分析1~200個最大金屬顆粒的 成份信息

■生成滿足ISO16232要求的最終報告

蔡司Crossbeam聚焦離子束顯微鏡

專為高通量3D分析和樣品制備量身打造的FIB-SEM 

蔡司Crossbeam將場發(fā)射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)鏡筒的強大成像和分析性能與新一 代聚焦離子束(FIB)的優(yōu)異加工能力相結合 無論是切割枣象、成像或進行3D分析，Crossbeam系列都能 大大提升您的應用體驗灶逃。借助Gemini電子光學系統(tǒng)舶舅，您 可從高分辨掃描電子顯微鏡圖像中獲取真實的樣品信息。 蔡司最新一代Ion-sculptor鏡筒整體上引入了全新的FIB 加工方法鬼胸。這種方法能夠減少樣品損傷奸闽，提升樣品質量， 從而加快實驗進程恢筝。

Gemini光學系統(tǒng)的優(yōu)勢

Crossbeam中的FE-SEM電子鏡筒基于Gemini電子光學 系統(tǒng)哀卫。SEM的校準具有長效穩(wěn)定性，且電子束流和加速 電壓等所有系統(tǒng)參數(shù)均可輕松進行調節(jié)滋恬。與其它FE-SEM 相比聊训，Gemini光學系統(tǒng)具有無外泄磁場的優(yōu)勢抱究。這可以 讓您在大視野范圍下獲得無畸變、高分辨率的圖像带斑，即便 樣品臺傾斜時也不會影響成像鼓寺，甚至還能輕松完成磁性樣 品成像。

全新Ion-sculptor聚焦離子束鏡筒

Ion-sculptor離子源高達100 nA的束流勋磕，可以大大提高 FIB-SEM 3D應用的采集效率妈候，同時在低束流下可獲得小 于3 nm的高F舊分辨率。在采集圖像的過程中挂滓，產品具 備可靠的穩(wěn)定性苦银，助您獲得高精度且高度可重復的結果。 當在2卩A的目標發(fā)射電流下工作時赶站，F(xiàn)IB源的常規(guī)使用壽 命高于3000 pAho

深入洞察樣品的2D幔虏、3D細節(jié)

蔡司Crossbeam系統(tǒng)利用FIB在低電壓的良好性能可制備 出高質量損傷小的樣品(如TEM薄片樣品)，并在獲取 3D數(shù)據(jù)中對樣品進行全面表征惕秧。同時奥徒，系統(tǒng)還采用多種 探測器，獨有的能量選擇背散射(Inlens EsB)探測器可 進行純材料成分襯度的成像的炫⊥吕蹋可在維持樣品倉內高真空的 同時利用Crossbeam 350選配的可變氣壓模式，使用戶 在測試非導電樣品時不受荷電效應干擾蜕裳。

提升樣品制備效率

將Gemini光學系統(tǒng)與全新的F舊加工方法相結合：使用高 達100nA的離子束束流吹蜡，不僅為您節(jié)省時間，同時可獲得 更高的FIB加工精度呈锣，自動批量制備截面或用戶自定義圖 形锤衡，可以節(jié)省更多時間。優(yōu)化的曰常工作流程增強了F舊 離子源的使用壽命和穩(wěn)定性颠恬，且在長期實驗中更具優(yōu)勢洞逼。

良好的3D分辯率

憑借良好的3D分辨率和各向一致三維體素尺寸，用戶可 在FIB-SEM斷層掃描成像中獲取更精準憾汛、可靠的結果。

Inlens EsB探測器能對深度小于3nm的樣品切片進行探 測和成像肝陪。為其幵發(fā)的Atlas 5,可快速且精準地控制每 —片切片厚度驳庭，幫助您擴展Crossbeam產品的3D采集 功能。您還可以在切片的同時進行成像氯窍，從而大大節(jié)約時 間饲常。此外，對三維體素尺寸的實時追蹤和全自動圖像聚焦 像散流程也會讓您受益匪淺狼讨。

蔡司Crossbeam聚焦離子束顯微鏡

專為高通量3D分析和樣品制備量身打造的FIB-SEM

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