測量設(shè)備供應(yīng)商Nanometrics公司日前宣布針對光學(xué)CD測量(OpticalCD,OCD)推出一款最新設(shè)備及軟件產(chǎn)品——NanoStation系統(tǒng)配置了新一代嚴(yán)格耦合波分析(RCWA)OCD軟件。
NanoStation系統(tǒng)擁有最領(lǐng)先的多核CPU技術(shù)以及Nanometrics公司先進的ADAP散射測量模型軟件糊渊。工藝工程師可在此系統(tǒng)上應(yīng)用多種測量技術(shù),包括NI-OCD和SE-OCD,并且可以在Atlas,FLX及9010Series系統(tǒng)上快速傳輸數(shù)據(jù)旋钓。
Nanometrics產(chǎn)品營銷部主管DavidDoyle表示,先進工藝控制(APC)將有助于低成本半導(dǎo)體器件的實現(xiàn),而精確的光學(xué)CD測量又是其中重要一環(huán)。我們最新的OCD系統(tǒng)將給客戶帶來顯著的成本效益舆骚。
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